光刻机是芯片制造的关键，现在在中国有哪些企业能够研制光刻机？
终是打破了荷兰的垄断，中国有了自己的光刻机，前途无限！
世界上制造光刻机技术最为先进的应该是荷兰，荷兰现在疫情闹得挺严重的，俄罗斯曾经给出一个神助攻督促，或者说给荷兰建议用荷兰的供货机换我们的口罩，因为现在医疗资源非常紧张，尤其是口罩和防护服。我们国家在光科技的研究制造方面和世界一流水平还有差距，我们不断的和全球做生意，有了经济交流，自然清楚其他国家处在一个什么样的水平大型的光客机精度够高的，光客机对我们国家的科技进步是产生决定性的作用的，比如说我们现在手机电脑所使用的芯片，我们的手机芯片是使用8毫米的还是6毫米的还是5毫米的，很大程度上取决于光刻机到底有多先进，而我们没有精度特别高的工作机，所以我们的自主芯片有难度。有很多企业是可以自己制造光刻机的，光刻机要说简单也简单，说难也难，如果说精度要求不是特别高的话，我们国家自己制造的，其实也没有问题，但是要求足够高的精度那就有问题了，因为掌握这些顶级技术的国家就那么几个，而且那些国家他们都形成了一个内部的联盟，这些技术不对外出口，他们内部封闭，我们连相应的研究资料以及设备都买不到，有钱也买不到，所以这是没有办法的事情，我们就得不断去提高自己的自主创新能力，自己去解决这个问题，毕竟靠别人永远不如靠自己。研究这个东西，当然不是个体企业的资金所能够支持的，有很多世界上能够制造高级光客机，也就是那些顶尖技术的光客机的企业都是有国家支持的，有他们的国家级拨给他们相应的资金，政策，让他们有更多的研发空间，能够去不断提高自主的创新能力，在世界范围内占有一席之地，对于提升综合国力，提升国家地位有着非常大的作用。
光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备(集团)股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。而且有了一定的科研成果，但是目前我国高端芯片的制造却主要依赖荷兰进口的光刻机。我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能（中高端光刻机市场已基本没落）ASML（中高端市场近乎垄断）比差距很大。
光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到最先进的14nm光刻机就只剩下ASML，日本佳能和尼康已经基本放弃第六代EUV光刻机的研发。相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸。
上海微电子装备(集团)股份有限光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域，2018年出货大概在50-60台之间。营业收入未公布，政府是有大量补贴的。处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能最好的是90nm光刻机，制程上的差距就很大，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
2016年11月15日，由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利完成验收前现场测试。在长春光机所、成都光电所、上海光机所、中科院微电子所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学等参研单位的共同努力下，历经八年的戮力攻坚，圆满地完成了预定的研究内容与攻关任务，突破了现阶段制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术，初步建立了适应于极紫外光刻曝光光学系统研制的加工、检测、镀膜和系统集成平台，为我国光刻技术的可持续发展奠定了坚实的基础。
合肥芯硕半导体有限公司成立与2006年4月,是国内首家半导体直写光刻设备制造商。该公司自主研发的ATD4000,已经实现最高200nm的量产。
无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。
先腾光电成立于2013年4月,已经实现最高200nm的量产,在2014国际半导体设备及材料展览会上,先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术,震惊四座。
国内光刻机技术比较先进，已经量产的应该是上海微电子装备有限责任公司（简称SMEE)，已经实现90nm的量产，目前正在研究65nm的工艺。
其他的包括 合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果。
但这些光刻机企业，目前还是在原来的道路上一步一步往前走，相信只要努力，未来也能达到很高的水平。但对于光刻机行业来说，他们的追赶速度虽然很快，但技术进步的速度也是很快。所以，他们只能持续在低端方面，占有一定的市场份额。
如果要进入高端市场，目前国内最先进的光刻机技术，应该是中科院光电技术研究所的技术成果。
2018年11月29日，新华社报道称，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。据悉，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
也就是中国科学院光电技术研究所的这个成果，直接将中国光刻机技术向前推进好几代。当然，这个科研成果，距离完整实现量产，还有好几个关卡要过。
首先是光刻分辨力达到22纳米只是一次极限测试，属于单次曝光，还制造不了芯片。其次是，能够实验室制造芯片，还要实现量产，这又是一个关卡。但总的来说，已经有了“光刻分辨力达到22纳米”，那么距离成型机，已经没有那么遥远了。
该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片
先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果
我所知的是上海微电子装备有限责任公司
光刻机是芯片制造的关键,现在在中国有哪些企业能够研制光刻机?
答：光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备(集团)股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。
光刻机已经交付了吗
答：光刻机已经交付了。光刻机是芯片制造的关键设备，其工作原理基于光学技术和化学技术，光刻机通过紫外线光来投影图像，并通过光学系统将图像转移到特定的基板表面上。高端光刻机的制造难度丝毫不亚于原子弹，放眼全球，也只有A...
中国光刻机现在多少纳米
答：一、中国光刻机现在多少纳米2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收。也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺。之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA800/10W光刻机，...
全球最大光刻机巨头ASML向韩国投资,对中国有哪些啥影响?
答：1. ASML是全球最大的光刻机制造商，其产品占据全球市场近60%的份额。公司独家供应能够制造7纳米及更先进芯片所需的EUV光刻机。2. 据韩国媒体报道，ASML计划对韩国投资2400亿韩元，折合约1.92亿美元。这笔资金将用于在韩...
若想建立起属于我们自己的芯片产业,有哪些难关需要攻破?
答：但是好在我国现在已经高度发展的经济，已经有能力进行芯片产业的大规模投资和研发工作。同时由于美国等国家对我国进行一系列的恶意制裁。更加坚定了我国自行研发芯片的道路和决心。制造芯片的大部分设备相比于光刻机的治疗难度要低...
我国有光刻机吗,在哪里?
答：中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心...
中国目前光刻机处于怎样的水平?你知道吗?
答：查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作。而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。但是据相关信息透露，预计...
中国的光刻机在哪里?
答：国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯。中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘...
光刻机在芯片生产中的重要性
答：刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备。决定芯片精密尺寸光刻机决定了芯片的精密尺寸,设计师设计好芯片线...
光刻机是什么?目前我国光刻机的加工精度是多少?
答：光刻机是芯片制造过程中最重要的一部分，就是我们把想要设计的芯片，用光学技术刻在晶圆上，用光学技术把各种各样形式的电路通过光刻胶把电路印制在基板上， 然后再进行下一步的刻蚀过程 。通过光刻胶印制的电路可以使...